美国GATAN PECS II 精密离子刻蚀与镀膜系统
发布:2016-10-23 12:34 | 来源:未知 | 浏览:
PECS II 精密离子刻蚀与镀膜系统
利用宽幅氩离子束对样品进行抛光和镀膜处理,从而得到高质量的SEM 成像和分析结果。
优点
全自动氩离子抛光系统适合用于制备 SEM 样品,可以得到无损的表面、横截面和镀层,以保护样品或克服非导电样品的荷电问题。
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只需一次抽真空,就可现实对样品的抛光、刻蚀或镀膜
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在低至 100 伏的电压下刻蚀,从而快速地得到无损样品表面
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可制备直径高达 32 毫米的样品
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在不暴露于空气的情况下,将样品从 PECS™ II 仪器转移到 SEM/FIB 或手套箱中(可选)
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利用 Gatan 的 DigitalMicrograph® 软件存储和分析图像,数字光学成像
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集成的 10 英寸彩色触摸屏显示和控制所有 PECS II 参数